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尼康公司管理层、技术团队和普通员工喜笑颜开,干劲十足。
日本半导体行业欢欣鼓舞,决定联合投资2350亿日元20亿美元,在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。
“孙先生,BSEC什么时候能研发成功45nm制程的浸没式光刻机?”
6月5日,阿密特从日本打来电话,接到尼康公司的邀请,他代表Intel前往尼康公司查看DSP-100干式光刻机的性能,尼康公司希望Intel提前预定DSP-100,价格可以优惠。
在1994年GCA重回光刻机老大之前,Intel一直是尼康公司的最大客户。
Intel正在研发第一款四核处理器Core2Quad,即将开启四核时代的大门,这款CPU拥有582,000,000个晶体管,运行速度为3.4GHz,最大存储容量为32TB,采用45nm制程工艺。
阿尔特曼代表AMD公司也出现在尼康公司。
AMD如今正在研发第一款四核处理器速龙IIX4641,采用K10.5架构,这款CPU拥有624,000,000个晶体管,运行速度为3.4GHz,二级缓存4M,最大存储容量为32TB,采用45nm制程工艺。
AMD希望抢在Intel的前面开启四核时代。
两人参观完后,犹豫不决,约在一起,由阿密特给孙健打电话。
阿尔特曼和阿密特都兼任GCA的董事,虽然Intel和AMD是竞争对手,但两人的私人关系不错。
GCA、Intel和AMD既是Sematech会员,还是GCAEUV光刻机股份公司的重要股东。
要是GCA的光刻机和Nikon的光刻机制程一样,价格差不多,Intel和AMD都会购买GCA的。
由于BSEC拒绝给尼康的65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F专门升级双工作台系统,NSR-S308F装配的还是90nm制程光刻机的双工作台系统,工作效率比TWINSCANNXT:2230低15%左右,加上价格贵45%,NSR-
S308F除了SELETE购买了3台,没有听说其他晶圆厂购买。
DSP-100也没有升级双工作台系统,这是一个重大劣势;预定价格3500万美元,比之前购买的TWINSCANNXT:2230贵了2000万美元,这可以理解。
干式光刻机和浸润式光刻机各有优缺点。
干式工艺需要CVD沉积、干显影、干蚀刻等多环节,设备占地面积为浸润式的5倍以上,综合成本约为浸润式的3倍。但干式工艺材料消耗仅为浸润式的15-110,每片晶圆能耗降低50%,长期看可减少光刻胶用量30%以
上,减低供应链风险。
但晶圆厂从浸润式光刻机换成干式光刻机,需要在光刻胶类型及涂布方式、光学系统调整、设备配套设施、工艺参数优化、成本投入变化等方面调整,工程师们需要很长的时间才能适应。
预定45nm制程的光刻机到45nm制程工艺的半导体生产线量产,一般建设周期需要一年左右。
哪家先预定DSP-100,哪家就能先拿到!
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